a.金屬膜：主要是作為反射鏡和半反射鏡用。在各種平面或曲面反射鏡，或各式稜鏡等，都可依所需鍍上Al、Ag、Au、Cu等 各種不同的材料。不同的材料在光譜上有不同的特性。AI的反射率在紫外光、可見光、近紅外光有良好的反射率，是鍍反射鏡**常使用的材料之一。Ag膜在可見光和近紅外光部份的反射率比AI膜更高，但因其易氧化而失去光澤，只能短暫的維持高反射率，所以只能用在內(nèi)層反射用，或另加保護膜。b.非金屬膜：鋁是從紫外區(qū)到紅外區(qū)都具有很高反射率的***材料，同時鋁膜表面在大氣中能生成一層薄的氧化鋁(Al2O3)，所以膜層比較牢固、穩(wěn)定。常用的是前4種。光學(xué)反射膜用以增加鏡面反射率，常用來反光、折光和共振腔器件。崇川區(qū)名優(yōu)光學(xué)膜服務(wù)電話

01:21長步道工業(yè)光學(xué)|鏡頭鏡片的鍍膜工藝居然需要納米級的工藝光學(xué)零件表面鍍膜后，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。光學(xué)薄膜在高真空度的鍍膜腔中實現(xiàn)。常規(guī)鍍膜工藝要求升高基底溫度(通常約為300℃)；而較先進的技術(shù)，如離子輔助沉積(IAD)可在室溫下進行。IAD工藝不但生產(chǎn)比常規(guī)鍍膜工藝具有更好物理特性的薄膜，而且可以應(yīng)用于塑料制成的基底。圖19.11展示一個操作者正在光學(xué)鍍膜機前。抽真空主系統(tǒng)由兩個低溫泵組成。電子束蒸發(fā)、IAD沉積、光控、加熱器控制、抽真空控制和自動過程控制的控制模塊都在鍍膜機的前面板上。如東國內(nèi)光學(xué)膜私人定做光學(xué)薄膜元件的設(shè)計、制備及其性能的測試等。

2.利用光波干涉原理，在鏡片的表面鍍上一層薄膜，厚度為1/4 波長的光學(xué)厚度，使光線不再只被玻璃—空氣界面反射，而是空氣—薄膜、薄膜—玻璃二個界面反射，因此產(chǎn)生干涉現(xiàn)象，可使反射光減少。若鍍二層的抗反射膜，使反射率更低，但是鍍一層或二層都有缺點：低反射率的波帶不移寬，不能在可見光范圍都達(dá)到低反射率。1961年Cox、Hass和 Thelen三位首先發(fā)表以1/4一1/2一1/4波長光學(xué)厚度作三層抗反射膜可以得到寬波帶低反射率的抗反射膜。多層抗反射膜除了寬波帶的，也可做到窄波帶的。也就是針對其一波長如氨氟雷射632.8nm波長，要求極高的透射，可使63Z.8nm這一波長透射率高達(dá)99.8%以上，用之於雷射儀器。但若需要對某一波長的光線有看極高的反射率需要用高低不同折射系數(shù)的材料反覆蒸鍍數(shù)十層才可達(dá)到此效果

在工藝上，人們還缺乏有效的手段實現(xiàn)對薄膜淀積參量的精確控制，這樣，薄膜的生長就具有一定程度的隨機性，薄膜的光學(xué)常數(shù)、薄膜的厚度以及薄膜的性能也就具有一定程度的不穩(wěn)定性和盲目性，這一切都限制了光學(xué)薄膜質(zhì)量的提高。就光學(xué)薄膜本身來說，除了光學(xué)性能需要提高，吸收、散射等光損耗需要減少之外，它的機械強度、化學(xué)穩(wěn)定性和物理性質(zhì)都需要進一步改進。在激光系統(tǒng)中，光學(xué)薄膜的抗激光強度較低，這是光學(xué)薄膜研究中**重要的問題之一。下面介紹幾種常用的光學(xué)薄膜元件。原則上說，全電介質(zhì)反射膜的反射率可以無限接近于1，但是薄膜的散射、吸收損耗限制了薄膜反射率的提高。

擴散膜擴散片（DL系列）是在透明性非常好的PET表面，使用丙烯酸樹脂，精密涂布一層隨機分散的微米結(jié)構(gòu)的擴散粒子，在PET的相對面再精密涂布一層隨機分散的微米結(jié)構(gòu)的抗靜電粒子，運用在液晶顯示器中,使光線經(jīng)由擴散層產(chǎn)生多次折射及繞射,從而起到均光作用，讓光顯示更加均勻柔和。反射膜反射片為在流延法制造時，在PET樹脂中摻雜HR高分子光學(xué)劑及增塑劑，以達(dá)到遮光和高反射效果之膜片，由於在膜片的中間層具有一定的吸收光線，而降低了反射效果。故此，在表面增加一層HR介質(zhì)膜層，達(dá)到更佳的反射效果并具有抗紫外線黃變功能。；采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高；利用光學(xué)薄膜可提高硅光電池的效率和穩(wěn)定性。海安挑選光學(xué)膜報價

為了使金屬反射膜的反射率進一步提高，可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層，組成金屬電介質(zhì)反射膜。崇川區(qū)名優(yōu)光學(xué)膜服務(wù)電話

光學(xué)薄膜指通過物理化學(xué)方法在光學(xué)器件表面沉積的膜系，利用光的干涉效應(yīng)改變光學(xué)特性，實現(xiàn)增透、反射、分光等功能。其應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代，現(xiàn)***用于光學(xué)及光電子領(lǐng)域。按功能可分為增透膜、高反膜、濾光膜等類型，材料分為金屬膜（如鋁、銀、金）和非金屬膜兩類，金屬膜常用于反射鏡，非金屬膜因穩(wěn)定性高而應(yīng)用更廣。光學(xué)薄膜通過控制膜層折射率與厚度實現(xiàn)光波干涉，單層膜可減少反射光，多層組合可擴展低反射率波帶。1961年，三層抗反射膜技術(shù)的提出***提升了寬波帶性能。制造技術(shù)包括熱電阻蒸鍍、電子束蒸發(fā)和濺射法，其中濺射法附著力比較好。隨著光電產(chǎn)業(yè)發(fā)展，光學(xué)薄膜在通訊、顯示、存儲等領(lǐng)域成為關(guān)鍵組件，如投影設(shè)備、光通訊濾波片等，其技術(shù)進步直接影響現(xiàn)代光學(xué)儀器的性能演進。崇川區(qū)名優(yōu)光學(xué)膜服務(wù)電話

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